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集成光电子国家重点实验室研制出GaN基紫外激光器

时间:2016-12-15

     2016年1214日,半导体所集成光电子学国家重点实验室赵德刚研究员的团队研制出GaN紫外激光器。GaN被称为第三代半导体,在光电子学和微电子学领域有广泛的应用,其中GaN紫外激光器在紫外固化、紫外杀菌等领域有重要的应用价值,也是国际上的研究热点。GaN紫外激光器技术难度很大,目前国际上仅有日本的日亚公司等极少数单位有产品或研究报道。紫外激光器的研制成功也是我国在GaN基蓝光和绿光激光器突破之后取得的又一重要进展。

      赵德刚研究员带领的团队长期致力于GaN光电子材料和器件研究,对材料生长机理、材料物理和器件物理有自己的理解和认识,发现和解决了一系列激光器的关键问题:掌握了InGaN量子阱局域态调控和缺陷抑制方法,提高了发光效率;阐明了杂质的补偿机制,获得了高质量的p-GaN材料;设计出优化的器件结构,减小了吸收损耗和电子泄漏;利用变程跳跃的物理机制,实现了良好的p-GaN欧姆接触;解决了同质外延中衬底翘曲的难题,采用MOCVD生长出高质量的器件结构。在此基础上,与中科院苏州纳米所进行工艺合作,最终实现了GaN紫外激光器的室温电注入激射。条宽为10 μm、腔长为600 μm激光器阈值电流密度为1.6-2.0 kA/cm2,激射波长为392-395 nm,连续激射输出光功率可达80 mW。图1为紫外激光器的激射光谱,图2P-I曲线,图3为紫外激光器激射时照到复印纸上形成的蓝色荧光光斑(紫外光人眼看不见,紫外激光照到复印纸上会发出蓝色荧光)。

      该工作得到了国家重点研发计划、国家自然科学基金、科学挑战计划、中科院百人计划等多个项目的支持。

 

                                            图1  GaN基紫外激光器激射光谱

 

                                       图2  GaN基紫外激光器的P-I曲线

            

 

                                 图紫外激光器激射时照到复印纸上形成的蓝色荧光光斑

 

 

 

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